仪器名称：高级匀胶系统仪器编号：04001156产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101C出厂日期：200303购置日期：200403
所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：62796022固定手机：18701647330固定email：andong3014@163.com联系人：安东（010-62796021,18701647330,andong3014@匀胶热板一体机是一种用于材料科学、机械工程、自然科学相关工程与技术、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2019年5月27日启用。
技术指标
最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤，向下兼容；Windows操作系统，PC控制；密码设定保护。 匀胶机：最大转速12000 rpm，转速精度<0.2 rpm；加速范围0~30000 rpm/s；时间设定精度0.1 s；不均匀性<±3% @4英寸。 热板：1
1、依次接上 真空泵的导气管、废液接收罐、废液接收罐上方是排废气的软管。
2、充氮 N2/干燥气体 CDA 的连接，一般这个细管（如上图 4 所示，口径为 6mm）需要接到氮气瓶或者实验室已有的氮气接口。
3、氮气瓶的接口如下图所示，这种接口是箍橡皮管，需要换成找转接头接上旋涂仪的 6mm 的白色塑料管。
4、充氮气或者干燥空气的压力需要 60~70 PSI
5、按“START”键启动程
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；
在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
1、片托选择合适的（相比于样片尺寸略小），使缺口与螺钉对准。在安装片托时必须要到底。
2、将电源开启，将控制键按下。
3、将匀胶时间和转速调节合适，转速为低速,转速Ⅱ为高速。
4、值得注意的是放片要放正。
5、将“吸片”键按下，抽气开始，值得注意的是在将“吸片”键按下以前，转速电位器上的指示灯不应该亮。
6、将启动键按下，shou先以低速旋转马达，在数字稳定以后为实际转速
7、要快速
很可能是胶没煮好！煮的时候要沸腾三次，摇匀，不然胶的密度不均一。
电压，电压过高也会拖带
可以适当提高电泳槽里面的缓冲液浓度。
如果还是不好，可以换一个稍微宽一点的梳子，一般效果会好很多。
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